三星、應用材料就“間諜門”達成和解 細節保密

作者:IT新聞網 來源:IT新聞網 2011-12-30 13:18:29 閱讀 我要評論 直達商品

韓國檢方今年2月對10名應用材料員工提起訴訟稱,他們在過去四年多的時間內將三星存儲芯片制造技術泄露給海力士。應用材料此前表示,所受指控員工中包含其前韓國主管,三星當時并未對應用材料公司提起訴訟。  精彩推薦

此前美國半導體設備供應商應用材料員工將三星芯片處理工藝技術外泄海力士從而聯力上演了現實版無間道,為了避免日后遭到三星的起訴,應用材料近日與三星達成和解。

應用材料今天表示,未來三年他們將以提供折扣的方式向三星及其附屬公司出售半導體設備,具體優惠幅度則要根據采購量而定。雙方達成的協議將從11月1日開始執行。

三星發言人Nam Ki Young表示,他們已經與應用材料就技術泄露一事達成和解,但并未披露細節內容。

韓國檢方今年2月對10名應用材料員工提起訴訟稱,他們在過去四年多的時間內將三星存儲芯片制造技術泄露給海力士。應用材料此前表示,所受指控員工中包含其前韓國主管,三星當時并未對應用材料公司提起訴訟。

不過雙方達成的和解協議并不針對涉案員工,三星對于應用材料韓國分公司現任、前任員工的指控還將在首爾東部地區法院繼續進行。

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