PC行業(yè)的將起波瀾?芯片的尺寸將越來越小,IBM打算用DNA(脫氧核糖核酸)使未來芯片制造更有可行性。
周一,IBM研究院與加州理工學(xué)院的Paul W.K. Rothemund宣布了一種新技術(shù),可在兼容于目前半導(dǎo)體制程設(shè)備的表面上來排列DNA的折紙構(gòu)造(origami structures)。
在一個(gè)微影圖案表面,低密度的三角形DNA折紙附著于一條條的粗在線。
“縮小芯片來改善性能所衍生的成本,是科技能否跟上摩爾定律的主要限制因素,同時(shí)也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所共同的關(guān)切,”IBM研究院科學(xué)技術(shù)部門經(jīng)理Spike Narayan表示。
摩爾定律是以英特爾共同創(chuàng)辦人Gordon Moore為命名,該定律指出一塊集成電路板上可容納的晶體管約每?jī)赡昕稍黾右槐丁?0多年來,芯片制造商一直能縮小芯片幾何規(guī)格,使得摩爾定律得以存活。
但目前22奈米以下芯片可能無法繼續(xù)適用,到了2014年,半導(dǎo)體制程設(shè)備高昂的成本大概會(huì)威脅到摩爾定律,“導(dǎo)致產(chǎn)業(yè)根本經(jīng)濟(jì)的重大變化。”iSuppli六月份一份報(bào)告指出。興建一座晶圓廠動(dòng)輒數(shù)十億美元,芯片越小,成本越高。
個(gè)別三角形DNA折紙附著在一片模版上,三角形外觀大小都一致。
IBM是使用DNA分子當(dāng)作支撐架,上百萬個(gè)納米碳管附著于DNA分子上,自行排列組合成精準(zhǔn)的圖案。這個(gè)方式或許可提供更經(jīng)濟(jì)的方式,來達(dá)成22納米以下的微影技術(shù)(lithography),甚至小至6奈米,根據(jù)九月份即將在Nature Nanotechnology刊出的這篇論文所表示,該論文是由IBM與加州理工學(xué)院科學(xué)家共同撰寫。
“此方式是運(yùn)用已經(jīng)有固定位置的DNA納米結(jié)構(gòu)來當(dāng)作支架,或稱微型電路板,如此便能精準(zhǔn)做組件的組合,比如納米碳管、納米線,與納米粒子等。”IBM表示,把這種自行組合結(jié)合現(xiàn)今的制造技術(shù),必能讓最昂貴與最具挑戰(zhàn)的芯片制程省下許多成本,IBM表示。
IBM制造微影模版(芯片制造用)是采傳統(tǒng)半導(dǎo)體技術(shù)來刻出圖案,跟目前用來制造計(jì)算機(jī)芯片的方式一樣。(編輯:王小凡)
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